Influência da fotoativação na resistência ao cisalhamento da interface selante/esmalte (2008)
Source: Anais. Conference titles: Encontro do Grupo Brasileiro de Professores de Ortodontia e Odontopediatria. Unidade: FORP
Subjects: ESMALTE DENTÁRIO, SELANTES DE FOSSAS E FISSURAS
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ABNT
GIUNTINI, J. L et al. Influência da fotoativação na resistência ao cisalhamento da interface selante/esmalte. Anais. Curitiba: Faculdade de Odontologia de Ribeirão Preto, Universidade de São Paulo. . Acesso em: 28 abr. 2024. , 2008APA
Giuntini, J. L., Contente, M. M. M. G., Brandão, C. B., & Borsatto, M. C. (2008). Influência da fotoativação na resistência ao cisalhamento da interface selante/esmalte. Anais. Curitiba: Faculdade de Odontologia de Ribeirão Preto, Universidade de São Paulo.NLM
Giuntini JL, Contente MMMG, Brandão CB, Borsatto MC. Influência da fotoativação na resistência ao cisalhamento da interface selante/esmalte. Anais. 2008 ; 38( 1):[citado 2024 abr. 28 ]Vancouver
Giuntini JL, Contente MMMG, Brandão CB, Borsatto MC. Influência da fotoativação na resistência ao cisalhamento da interface selante/esmalte. Anais. 2008 ; 38( 1):[citado 2024 abr. 28 ]